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[1]向静,李玖娟,王翀,等. 等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用[J].复旦学报(自然科学版),2018,04:499-503.
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 等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用(PDF)

《复旦学报》(自然科学版)[ISSN:/CN:]

期数:
2018年04
页码:
499-503
栏目:
出版日期:
2018-08-25

文章信息/Info

Title:
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作者:
 向静李玖娟王翀陈苑明何为张怀武彭勇强艾克华李清华
Author(s):
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关键词:
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Keywords:
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分类号:
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DOI:
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文献标识码:
A
摘要:
 传统的去膜工艺不能够完全清除干膜微孔底部的残留物,导致干膜微孔生长电镀铜柱的均匀性较差.本文引入O2/CF4等离子对干膜微孔进行清除处理,对比研究了等离蚀刻处理前后干膜表面的形貌、表面元素、表面粗造度、浸润性,考察了干膜微孔电镀铜柱底部的均匀性.结果表明,经O2/CF4等离子处理后,干膜表面粗糙度变大,干膜微孔内的残留得到有效的清除,干膜微孔所生长的铜柱底部表现出更好的均匀性.
Abstract:

参考文献/References

备注/Memo

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更新日期/Last Update: 2018-08-29