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[1]向静,李玖娟,王翀,等. 等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用[J].复旦学报(自然科学版),2018,04:499-503.
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 等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用(PDF)

《复旦学报》（自然科学版）[ISSN:/CN:]

期数:
2018年04
页码:
499-503
栏目:
出版日期:
2018-08-25

文章信息/Info

Title:
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作者:
 向静; 李玖娟; 王翀; 陈苑明; 何为; 张怀武; 彭勇强; 艾克华; 李清华
Author(s):
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关键词:
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Keywords:
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分类号:
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DOI:
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文献标识码:
A
摘要:
 传统的去膜工艺不能够完全清除干膜微孔底部的残留物，导致干膜微孔生长电镀铜柱的均匀性较差.本文引入O2/CF4等离子对干膜微孔进行清除处理，对比研究了等离蚀刻处理前后干膜表面的形貌、表面元素、表面粗造度、浸润性，考察了干膜微孔电镀铜柱底部的均匀性.结果表明，经O2/CF4等离子处理后，干膜表面粗糙度变大，干膜微孔内的残留得到有效的清除，干膜微孔所生长的铜柱底部表现出更好的均匀性.
Abstract:

参考文献/References

备注/Memo

备注/Memo:
更新日期/Last Update: 2018-08-29