[1]向静,李玖娟,王翀,等. 等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用[J].复旦学报(自然科学版),2018,04:499-503.
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等离子诱发干膜表面改性及在均匀电镀中的应用(PDF)
《复旦学报》(自然科学版)[ISSN:/CN:]
- 期数:
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2018年04
- 页码:
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499-503
- 栏目:
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- 出版日期:
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2018-08-25
文章信息/Info
- Title:
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- 作者:
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向静; 李玖娟; 王翀; 陈苑明; 何为; 张怀武; 彭勇强; 艾克华; 李清华
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- Author(s):
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- 关键词:
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- Keywords:
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- 分类号:
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- DOI:
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- 文献标识码:
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A
- 摘要:
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传统的去膜工艺不能够完全清除干膜微孔底部的残留物,导致干膜微孔生长电镀铜柱的均匀性较差.本文引入O2/CF4等离子对干膜微孔进行清除处理,对比研究了等离蚀刻处理前后干膜表面的形貌、表面元素、表面粗造度、浸润性,考察了干膜微孔电镀铜柱底部的均匀性.结果表明,经O2/CF4等离子处理后,干膜表面粗糙度变大,干膜微孔内的残留得到有效的清除,干膜微孔所生长的铜柱底部表现出更好的均匀性.
- Abstract:
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更新日期/Last Update:
2018-08-29